+
  • 2(1779781018246).jpg
  • 5(1779781018297).jpg
  • 1(1779781018275).jpg
  • 4(1779781018267).jpg
  • 3(1779781018249).jpg

Алмазные подложки могут использоваться в компонентах для управления тепловыми процессами в оптической связи, микросхемах, массивах лазерных диодов, базовых станциях 5G, аэрокосмической отрасли и мощных электронных устройствах.

Ключевые слова:

Радиаторы из монокристаллического и поликристаллического алмаза, полученные методом химического осаждения из газовой фазы (CVD).


Послать консультацию

Предыдущая страница

Сведения о продукте

Параметр производительности

 

Теплопроводность

Монокристаллический алмаз1800-2000W/MK

Поликристаллический

500-1800W/MK

Диапазон толщины

0.2~3.0mm

0.2~2.0mm

Диапазон размеров

В соответствии с требованиями заказчика.

В соответствии с требованиями заказчика.

Допуск по толщине

±0.02mm

±0.02mm

Солнце

Ra10nm

Ra10nm

Термостойкость

Температура выше 800°C в атмосфере;

температура выше 1200°C в вакууме.

Температура выше 800°C в атмосфере;

температура выше 1200°C в вакууме.

Коэффициент теплового расширения

1.1*10-6k-1(Комнатная температура)

1.1*10-6k-1(Комнатная температура)

Диэлектрическая прочность

20kv/mm

20kV/mm

 

Области применения:

Алмазные подложки могут использоваться в компонентах для управления тепловыми процессами в оптической связи, микросхемах, массивах лазерных диодов, базовых станциях 5G, аэрокосмической отрасли и мощных электронных устройствах.

Послать консультацию